博纳热PECVD化学气相沉积管式炉设备发货

博纳热成功发货了一台PECVD气相沉积炉。

这款气相沉积炉在薄膜制备领域具有显著优势，采用尖端的等离子体化学气相沉积技术，通过精细控制工艺参数，为金属、半导体及绝缘体等多种材料提供卓越的薄膜沉积效果。

气相沉积炉的广泛应用，为微电子、光电、平板显示和储能等行业注入了新的动力，高效、稳定且可靠的制备能力，为客户提供了理想的解决方案，有助于推动客户在各自领域内取得更加出色的成就。

博纳热一直致力于技术创新和产品优化，此次气相沉积炉的成功发货，不仅展现了博纳热的技术实力和市场竞争力，也体现了其持续推动相关行业发展的决心，期待这款设备在未来应用中发挥更大的作用，为行业发展贡献更多力量。

设备特点

1、HRE电阻丝加热方式，达到了1200℃高温，满足了市场上众多高温沉积工艺的需求，HRE电阻丝加热技术的运用，确保了设备在加热过程中的均匀性和高效性，这对于制备高质量、高均匀性的薄膜至关重要。

2、化学气相沉积炉在升温速率控制上尤为精准，升温速率被严格控制在20℃/分以内，确保了加热过程的稳定性和可靠性，控温精度高达±1℃，进一步保障了薄膜质量的稳定性和一致性。

博纳热PECVD气相沉积炉还采用了射频辉光技术，这一技术的应用使得沉积速率大幅提升，达到了10Å/S的卓越水平，显著提高了生产效率，还为用户带来了更加快速、高效的薄膜制备体验。

3、为了满足多样化行业的需求，博纳热PECVD气相沉积炉在设计上展现出了强大的可扩展性和兼容性。这款设备不仅能配备多种不同规格和类型的反应室，轻松适应不同材料和工艺的制备需求，更支持多种气体混合和流量控制方式，为用户带来了前所未有的操作灵活性和便捷性。

在设备配置方面，博纳热PECVD气相沉积炉的反应室设计灵活多变，可根据用户的具体需求进行定制，无论是金属、半导体还是绝缘体等材料的薄膜制备，设备都能提供相应的反应室规格和类型，确保制备过程的顺利进行。

4、在强调高性能的同时，博纳热PECVD管式炉在安全防护方面同样毫不妥协，集成了超温保护和漏电自动断电功能，这些安全措施能在设备遇到异常情况时迅速切断电源，确保操作人员的人身安全。

不仅如此，还采用了双层风冷结构和日本技术真空吸附成型的氧化铝多晶纤维炉膛，这一设计创新不仅提升了设备的散热效率，使得设备在高强度工作时能够迅速散热，防止过热，而且保证了炉膛的卓越保温性能，有效减少了热量散失，进一步提升了设备的能源利用效率。

总结

用户的需求是推动我们不断前进的动力，因此我们始终将用户的需求放在首位，通过技术创新和品质提升，为用户提供更加优质、高效、可靠的设备和服务，提供优质的服务支持，博纳热的专业团队将为用户提供全方位的技术咨询、安装调试、培训指导以及售后维护等服务，确保用户能够充分利用设备的性能优势，实现最大的生产效益。